眾所周知,酸廣泛應用于ICP、ICP-MS分析樣品,酸中所含有的各種雜質,會導致不良的試劑空白,使痕量、超痕量元素的測定發生困難。由于目前市面銷售的高純酸質量岑差不齊,直接導致了超痕量分析結果不一致:且超純酸的市面價格非常昂貴,采購周期長,往往無法滿足日常分析要求。因此,為了適應分析儀器的"苛刻"要求,分析化學領域的科學家們越來越重視純酸的再純化。 "In the preparation of high purity reagents,there is only one significant and practical choice for the method of purification...sub-boiling distillation..." US EPA SW-846 Chapter 3, Update IVB
DUOPUR/SUBPUR——制備你自己的超純試劑
“制備高純試劑時,只有一種高效實用的純化方法:亞沸蒸餾” US EPA SW-846,Chapter 3, Update IVB 溶劑污染將增加待分析物質在樣品中的背景濃度。目前,許多實驗室購買非常昂貴的超純酸用于痕量分析。正由于此,Milestone推出了DuoPUR/SUBPUR亞沸蒸餾純化系統,有了這套系統,實驗室工作人員能夠自己純化所需的試劑,并且大大降低了成本。
DUOPUR/SUBPUR的特點包括:
通過純化低成本的酸試劑到高純酸,節省成本多達90% 高產率,每8小時可純化3L的高純酸 可持續供給高純酸 可按用戶要求純化酸 可重新凈化被污染的酸 根據需要,可配置單管或雙管蒸餾
DUOPUR含兩個亞沸蒸餾裝置:
功率:1250W 計算機自動控制功率大小,控制范圍:0-100%,增重1% 加熱器件:具有金擴散的4個加熱管 溫度控制:具有熱開關保護,以防酸缺少時的過熱 水冷卻:電磁閥自動開/關 2×20行LCD顯示的控制終端 存儲多達50個程序 可以用不同的加熱程序同時運行兩個蒸餾裝置 尺寸:55×35×60cm(~21"×14"×24") 重量:22kg(~18 Ibs) 電源:230V-50/60 Hz
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Cetac OmnipureTM——SUB-Boiling Distillation Systems
亞沸純化系統性能和優點:
所有部件均為惰性材料(Teflon®PFA&FEP) 純化溫度能到110 ℃ 不需要專門的冷卻系統 程序升溫設置 蒸干自我保護設置 控制端與主機分開,可實現遠程控制,保護控制端和操作人員 密閉手機系統設計 使用標準化瓶收集純化酸 非常容易操作
防溢出設計
詳細參數:
純化瓶:1L容量,PFA材質,單次可純化500ml酸 尺寸:純化單元:43.5cm(W)×38.1cm(D)×73.7cm(H) 控制單元:16cm(W)2×2.1cm(D)×11.5cm(H) 總重:21.1kg 電源需求:100-240VACHz,50-60Hz,7A 溫度范圍:50 ℃ ~ 110 ℃,遞增速率1℃
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SD3A——制備您需要的HF酸
產品特點
: 聚四氟亞沸蒸餾 專門純化HF酸 24小時可制備300-500ml超純HF酸 被污染的試劑可進行再純化處理
技術指標:
純化能力:300-500ml/24h 加熱設備:LT電熱套 加熱功率:100W 加熱范圍:0-200 ℃ 控溫方式:電流控制 水路部分:PE管路(不含循環水部分) 設備支架:實心理化板材質
TraceClean 超凈清洗器
全自動、酸逆流清洗系統是同于消解罐和ICP/ICP-MS配件的超痕量清洗!
清洗用于痕量分析的各種附件是一項審慎而重要的實驗流程。傳統的清洗方法是在熱酸中浸泡數小時,但是這種方法不僅效率低、易造成大量的酸消耗,而且需要定期更換、熱酸和酸蒸汽的暴露也往往給操作人員帶來危險。 Milestone超凈清洗器是一種自動、密閉、酸逆流系統,它能徹底、安全地清洗痕量分析所使用的各種附件。首先把需要清洗的容器放入超凈清洗器中,設定需要的時間和溫度,然后按“啟動”。新鮮的、由蒸餾而得來的酸蒸汽在密閉的腔體內將持續地逆流,十分徹底地清洗掉容器上的任何金屬污染物。清洗完畢后,容器被冷卻、干燥后儲存備用。顯而易見,Milestone超凈清洗器最大的優勢在于可清洗掉所有酸中的任何痕量金屬污染物,并將其留在液體酸中,絕不會接觸已清洗干凈的器件,可廣泛用于清洗各種附件如小瓶、微波消解罐、燒瓶、玻璃器皿以及ICP/ICP-MS配件。
清洗器自動酸回流系統
自動控溫 內置排氣、冷卻裝置 PTFE鍍層的不銹鋼腔體 2×20行LCD顯示的控制終端 尺寸:48D×50W×108H cm (19.2×20×43.2in) 重量:70kg (154Ibs) 電源:23V-50/60HZ
超凈清洗器的特點:
是清洗各種TFM、PFA、玻璃和石英等超痕量分析所用的最佳方案,這些儀器包括:微波消解的樣品罐、ICP/ICP-MS配件 (如炬管等) 只有超純的酸蒸汽接觸要清洗容器的表面 表面污染物被清除后,干凈的容器將不再接觸清洗用的酸 清洗干凈的器皿在密閉的腔體內冷卻、干燥 確保不被空氣中的污染物玷污,并且無需再沖洗、干燥 操作者不會暴露于酸蒸汽中 PTFE支架簡化了干凈器件的操作方案 可選用內置的應用程序或創建儲存新程序 自動控溫 具有排氣和冷卻裝置,減少酸蒸汽的暴露 PTFE鍍層的不銹鋼腔體保證設備堅固耐用,并且防止了使用過程中的交叉污染